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Self Aesthetic Poreclean Bubble Mask (x 1un)

$2.990

G9Skin- Self aesthetic Poreclean Bubble mask es una mascarilla de burbujas para el rostro, con carbón activado que limpia los poros en profundidad. Contiene agua carbonatada, tanino botánico y carbón de bambú, para ayudar a refinar los poros y nutrir la piel.

Beneficios:

  • Mascarilla de limpieza profunda que reduce el tamaño de los poros.
  • Controla la grasa.
  • Elimina puntos negros.
  • Elimina las células muertas de la piel.

Modo de uso:

  • Aplicar en rostro limpio.
  • Dejar actuar de 15 a 20 minutos.
  • Retire la mascarilla con agua fría.

Contenido: 1un.

Hay existencias

Description

Ingredientes:

Water, glycerin, cocamidopropyl betaine, dipropylene glycol, disiloxane, methyl perfluorobutyl ether, methyl perfluoroisobutyl ether, butylene glycol, water (carbonated water), castanea crenata (chestnut) shell extract, artemisia vulgaris extract, brassica oleracea acephala leaf extract, houttuynia cordata extract, triticum vulgare (wheat) sprout extract, brassica oleracea italica (broccoli) extract, phaseolus angularis seed extract, coix lacryma-jobi ma-yuen seed extract, arachis hypogaea (peanut) fruit extract, panax ginseng root extract, panax ginseng root extract, dioscorea japonica root extract, codonopsis lanceolata root extract, platycodon grandiflorum root extract, ginkgo biloba leaf extract, kaolin, salicylic acid, betaine salicylate, camellia sinensis leaf extract, vitis vinifera (grape) fruit extract, diospyros kaki fruit extract, nelumbo nucifera flower water, eucalyptus globulus leaf extract, origanum vulgare leaf extract, hibiscus sabdariffa flower extract, hedera helix (ivy) leaf extract, linum usitatissimum (linseed) seed extract, salvia hispanica seed extract, pinus sylvestris leaf extract, sodium cocoyl apple amino acids, hydroxyethylcellulose, sodium chloride, tetrasodium glutamate diacetate, alcohol, 1,2-hexanediol, disodium edta, hexylene glycol, ethylhexylglycerin, phenoxyethanol, fragrance.

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