Envíos a Todo Chile / Tienes una tienda? Escríbenos a contacto@skinlab.cl

DR. ALTHEA Premium Dr. Althea Squalane Silk Mask (x1un)

$3.990

Mascarilla de esencia fabricada a base de ingredientes naturales. Entrega a la piel una humectación profunda para un cutis saludable y radiante.

Contiene Scualano, así como colágeno hidrolizado y ácido hialurónico para hidratar profundamente de la piel.

Beneficios:

  • Aporta oxígeno y nutrientes a la piel para prevenir el envejecimiento de las células.
  • Refuerza la barrera cutánea para proteger la piel de los agresores externos.

Modo de uso:

1. Después de la limpieza, prepare su piel con tónico. Saque la mascarilla y retire la película.

2. Colocar la mascarilla correctamente sobre el rostro y dejar actuar durante 20-30 minutos.

3. Después de 20-30 minutos, retire la mascarilla y dé golpecitos suaves hasta que la esencia restante se absorba por completo.

Contenido: 28gr.

In stock

Description

Agua, glicerina, dipropilenglicol, alcohol, metilpropano-diol, propanod1ol, butilenglicol, colágeno hidrolizado con hialuronato de sodio, squal ane (100ppm). xy11tylglucos 1de anhidroxilitol, xilitol. Glucosa, extracto S11k, pantenol, betaína. Glicirrizato dipotásico. Copolímero de hidroxietilo de taurato, carbómero de acrilato / sodio, hidroxietilalcelulosa, argolina, goma xantana con EDTA disódica, ricino hidrogenado PEG-68 011.Glicirrh1za glabra regaliz) extracto de raíz, extracto de raíz de Zing1 berberina, extracto de raíz de schizandra, extracto de schiza officinale (extracto de raíz de schndra1 , extracto de hoja de camell1a sinens1s, caprilil glicol, 1ol de hexano 1,2, extracto de semilla de citrus grandis (pomelo), extracto de raíz de acorus cal amus, extracto de hoja de per11la ocymo1des. Cyclopentas1 loxano, ciclohexas1 loxano, fenoxietanol, fragancia acriloildimetilo.

Additional information

Weight 0.1 kg
Dimensions 17.5 × 2 × 13 cm

Reviews

There are no reviews yet.

Be the first to review “DR. ALTHEA Premium Dr. Althea Squalane Silk Mask (x1un)”

Your email address will not be published. Required fields are marked *